标准概要

微机电系统（MEMS）技术基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法

Micro-electromechanical system technology—Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer

国家标准《微机电系统（MEMS）技术基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法》由TC336（全国微机电技术标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。主要起草单位天津大学、中机生产力促进中心、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、南京理工大学、中国电子科技集团公司第十三研究所。主要起草人郭彤、胡晓东、李海斌、于振毅、裘安萍、程红兵、崔波、朱悦。 GB/T 34900-2017 现行

基础信息

标准号 GB/T 34900-2017

发布日期 2017-11-01

实施日期 2018-05-01

标准号 GB/T 34900-2017

发布日期 2017-11-01

实施日期 2018-05-01

起草单位

天津大学

国家仪器仪表元器件质量监督检验中心

中国电子科技集团公司第十三研究所

中机生产力促进中心

南京理工大学

起草人

郭彤

胡晓东

裘安萍

程红兵

李海斌

于振毅

崔波

朱悦

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申明

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