标准概要

磁控溅射用钌靶

Magnetron sputtering ruthenium target

国家标准《磁控溅射用钌靶》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口，TC243SC5（全国有色金属标准化技术委员会贵金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。主要起草单位有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院。主要起草人罗俊锋、丁照崇、李勇军、向磊、万小勇、刘书芹、熊晓东、王庄、贺昕、滕海涛、高岩。 GB/T 34649-2017 现行

基础信息

标准号 GB/T 34649-2017

发布日期 2017-09-29

实施日期 2018-04-01

标准号 GB/T 34649-2017

发布日期 2017-09-29

实施日期 2018-04-01

起草单位

有研亿金新材料有限公司

有色金属技术经济研究院

起草人

罗俊锋

丁照崇

万小勇

刘书芹

贺昕

滕海涛

李勇军

向磊

熊晓东

王庄

高岩

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申明

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