标准概要

氮化镓单晶衬底片x射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法

The method for full width at half maximum of double crystal X-ray rocking curve of GaN single crystal substrate

国家标准《氮化镓单晶衬底片x射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。主要起草单位中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司、中国科学院物理研究所、北京天科合达蓝光半导体有限公司、丹东新东方晶体仪器有限公司。主要起草人邱永鑫、任国强、刘争晖、曾雄辉、王建峰、陈小龙、王文军、郑红军、徐科、赵松彬。 GB/T 32188-2015 现行

基础信息

标准号 GB/T 32188-2015

发布日期 2015-12-10

实施日期 2016-11-01

标准号 GB/T 32188-2015

发布日期 2015-12-10

实施日期 2016-11-01

起草单位

中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

中国科学院物理研究所

丹东新东方晶体仪器有限公司

苏州纳维科技有限公司

北京天科合达蓝光半导体有限公司

起草人

邱永鑫

任国强

王建峰

陈小龙

徐科

赵松彬

刘争晖

曾雄辉

王文军

郑红军

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申明

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