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硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法

Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron,aluminium,phosphorus,vanadium,chrome,manganese,iron,cobalt,nickel,copper,molybdenum,arsenic and antimony content - Inductively coupled plasma mass spectrometric method
国家标准《硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 南京中锗科技股份有限公司 、南京大学现代分析中心 、南京大学国家863计划新材料MO源研究开发中心 。 主要起草人 郑华荣 、刘新军 、龚磊荣 、张莉萍 、黄和明 、陈逸君等 。 GB/T 29056-2012 现行 20240139-T-469 正在起草
  基础信息
标准号 GB/T 29056-2012
发布日期 2012-12-31
实施日期 2013-10-01
标准号 GB/T 29056-2012
发布日期 2012-12-31
实施日期 2013-10-01
  起草单位
  南京中锗科技股份有限公司
  南京大学国家863计划新材料MO源研究开发中心
  南京大学现代分析中心
  起草人
  郑华荣
  刘新军
  黄和明
  陈逸君
  龚磊荣
  张莉萍
  推荐标准
  申明
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  关键词标签
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