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重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法

Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
国家标准《重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 信息产业部专用材料质量监督检验中心 、中国电子科技集团公司第四十六研究所 。 主要起草人 马农农 、何友琴 、丁丽 。 GB/T 24580-2009 现行 本标准修改采用其他国际标准:SEMI MF 1528-1104。 采标中文名称:用二次离子质谱法测量重搀杂N型硅衬底中的硼污染的方法。
  基础信息
标准号 GB/T 24580-2009
发布日期 2009-10-30
实施日期 2010-06-01
标准号 GB/T 24580-2009
发布日期 2009-10-30
实施日期 2010-06-01
  起草单位
  信息产业部专用材料质量监督检验中心
  中国电子科技集团公司第四十六研究所
  起草人
  马农农
  何友琴
  丁丽
  推荐标准
  申明
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