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硅片弯曲度测试方法

Test methods for bow of silicon wafers
国家标准《硅片弯曲度测试方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 洛阳单晶硅有限责任公司 。 主要起草人 刘玉芹 、蒋建国 、冯校亮 、张静雯 。 GB/T 6619-1995 (全部代替) GB/T 6619-2009 现行 本标准修改采用其他国际标准:SEMI MF534-0706。 采标中文名称:硅片弯曲度测试方法。
  基础信息
标准号 GB/T 6619-2009
发布日期 2009-10-30
实施日期 2010-06-01
全部代替标准 GB/T 6619-1995
标准号 GB/T 6619-2009
发布日期 2009-10-30
实施日期 2010-06-01
全部代替标准 GB/T 6619-1995
  起草单位
  洛阳单晶硅有限责任公司
  起草人
  刘玉芹
  蒋建国
  冯校亮
  张静雯
  推荐标准
  申明
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