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  标准概要

光掩模对准标记规范

Specification for registration marks for photomasks
国家标准《光掩模对准标记规范》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC4(全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会)执行 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 中国科学院微电子中心 。 GB/T 16524-1996 现行 本标准等效采用其他国际标准:SEMI P6:1988。 采标中文名称:。
  基础信息
标准号 GB/T 16524-1996
发布日期 1996-09-09
实施日期 1997-05-01
标准号 GB/T 16524-1996
发布日期 1996-09-09
实施日期 1997-05-01
  起草单位
  中国科学院微电子中心
  起草人
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  推荐标准
  申明
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  关键词标签
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