标准概要

刻蚀机用硅电极及硅环

Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine

国家标准《刻蚀机用硅电极及硅环》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。主要起草单位有研半导体硅材料股份公司、山东有研半导体材料有限公司、新美光（苏州）半导体科技有限公司、浙江海纳半导体有限公司。主要起草人库黎明、孙燕、闫志瑞、张果虎、夏秋良、潘金平。 GB/T 41652-2022 现行

基础信息

标准号 GB/T 41652-2022

发布日期 2022-07-11

实施日期 2023-02-01

标准号 GB/T 41652-2022

发布日期 2022-07-11

实施日期 2023-02-01

起草单位

有研半导体硅材料股份公司

新美光（苏州）半导体科技有限公司

山东有研半导体材料有限公司

浙江海纳半导体有限公司

起草人

库黎明

孙燕

夏秋良

潘金平

闫志瑞

张果虎

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申明

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