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表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法

Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
国家标准《表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法》 由TC608(全国表面化学分析标准化技术委员会)归口 ,主管部门为中国科学院。 主要起草单位 清华大学 、中国石油大学(北京) 。 主要起草人 姚文清 、段建霞 、杨立平 、王雅君 、李展平 、徐同广 、王岩华 。 GB/T 41064-2021 现行 本标准等同采用ISO国际标准:ISO 17109:2015。 采标中文名称:表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法。
  基础信息
标准号 GB/T 41064-2021
发布日期 2021-12-31
实施日期 2022-07-01
标准号 GB/T 41064-2021
发布日期 2021-12-31
实施日期 2022-07-01
  起草单位
  清华大学
  中国石油大学(北京)
  起草人
  姚文清
  段建霞
  李展平
  徐同广
  杨立平
  王雅君
  王岩华
  推荐标准
  申明
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